沈阳工业铝合金主要的工艺区别

硬质氧化做为沈阳工业铝合金阳极氧化中较为特别的一种电化学成膜方法，在铝表面处理加工工艺中占据较为重要的影响力。做为硬质氧化的性能指标，一个是氧化膜层较厚，广泛在25μm以上；二是氧化膜横截面显微强度在350HV以上。尽管强度和氧化膜厚度都逐步提高，可是氧化加工工艺与普通阳极加工工艺并沒有不同之处。

沈阳工业铝合金主要的工艺区别在以下几个方面：

①硬质氧化的槽温很低，建议在0℃左右，这就需要强大的冷冻机和搅拌循环装置。越低的温度造就越硬的氧化膜质量。

②硬质氧化的硫酸浓度较低，建议在130g/L左右，铝离子含量控制在5~10g/L范围较好。

③硬质氧化的电流密度较高、电压较大。建议电压在30V以上、电流密度在2.5/dm2以上，具体电参数需要配合槽温、硫酸浓度、合金材质等综合确定。

④沈阳工业铝合金采用脉冲电源或者特殊波形电源，升压阶段采取逐步递增加压的方式，一方面避免材料在过高电压下烧毁，另一方面也能促进氧化膜按照正常方式生长。

⑤硬质氧化也可以在槽液中添加一些有机酸。有机酸能够提高氧化膜的硬度以及韧性，也有直接使用有机酸溶液来做氧化工艺，用于一些特殊场合零部件氧化。

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